El objetivo de pulverización es el factor más importante para determinar el rendimiento del semiconductor. Así aplicado al semiconductor y el grado de precisión requerido, es la pureza más alta, el grado de pureza de los materiales objetivo de pulverización y la precisión afectarán directamente el rendimiento del semiconductor, la diferencia de los materiales objetivo de pulverización es la mayor cantidad de consecuencias directas causadas por el cortocircuito semiconductor Leer Más »

1. El material de grabación magnético de alta densidad puede mejorar en gran medida el rendimiento de las cintas y los discos duros y blandos de gran capacidad utilizando las ventajas de la alta densidad de grabación, la alta coercitividad (hasta 119.4ka / m), la alta relación señal a ruido y Buena resistencia a la oxidación del polvo nano-cobalto; 2. El líquido magnético con hierro, cobalto, níquel y su producción de polvo de aleación de excelente rendimiento, se pueden usar ampliamente en la absorción de descargas de sellado, la regulación de sonido, la pantalla de luz, etc. Leer Más »

El óxido de zinc tiene un espacio de banda grande y energía de unión a exciton, alta transparencia, excelente rendimiento de luminiscencia a temperatura ambiente, y se ha utilizado en el campo semiconductor de la exhibición de cristal líquido, transistores de película delgada, diodos emisores de luz y otros productos. Además, como un tipo de óxido de zinc nanomaterial, microgranular también ha comenzado a desempeñar un papel en los campos relacionados. Leer Más »

La aleación Tantalum y Tantalum tienen las ventajas del alto punto de fusión, la buena resistencia a la corrosión, la excelente resistencia a la temperatura, el buen rendimiento de mecanizado, la soldabilidad, la transición baja en plástico / quebradizo y excelentes propiedades mecánicas dinámicas. Se usa ampliamente en la electrónica, las armas, la industria química, la industria aeroespacial y el sistema de energía nuclear espacial, etc. Es un material estructural ideal para trabajar a 1600 ~ ~ 1 800. Leer Más »

El óxido de magnesio ligero es un producto muy utilizado, y el proceso de producción de óxido de magnesio ligero es muy amigable con el medio ambiente, el proceso de producción nacional más avanzado del óxido de magnesio ligero es generalmente de la siguiente manera: 1. El óxido de magnesio ligero se calcina en un rotatorio tradicional. horno de calcinación con hidróxido de magnesio como la principal materia prima; Leer Más »

¿Cuáles son las principales ventajas y desventajas de CVD? CVD utiliza uno o más gases para reaccionar químicamente en un sustrato sólido calentado y cubrirlo con una película sólida. Ventajas: 1. Los requisitos de grado de vacío no son altos, ni siquiera no necesitan vacío, como el recubrimiento por pulverización en caliente; 2. Tasa rápida de deposición, el CVD atmosférico puede alcanzar 1 μm / min; 3. Comparado con PVD. La composición química o el recubrimiento de aleación es más fácil de lograr; Leer Más »

En la actualidad, tanto la producción como la aplicación de nanomateriales han atraído la atención de todos los países. La nanotecnología de China ha logrado un progreso continuo, en Sio2, TiO2, AL2O3, Zno2, TIO2, AL2O3, Zno2, FE2O3 y otros materiales de polvo, ha sido exitosa producción industrial o producción de prueba, pero el proceso de producción existente, el alto costo de producción es su debilidad fatal, afectará La promoción y aplicación de nanomateriales, por lo que debemos seguir mejorando. Leer Más »

El objetivo de tungsteno de alta pureza es un sustrato importante para la transición de la película de óxido de tungsteno en dispositivos semiconductores. Debido al alto punto de fusión del tungsteno, los objetivos de tungsteno se preparan principalmente por metalurgia en polvo. El método de preparación incluye la pureza de 99,999% o más, tamaño de partícula de 3.2 4.2 μm de polvo de tungsteno para una mezcla uniforme, colocada en el horno de tratamiento térmico de vacío para la pre-desgasificación, y luego en hidrógeno, continúe calentando pasos de desgasificación Leer Más »

La aplicación de nanomateriales en varios campos los nanomateriales tienen efecto de volumen, efecto superficial, efecto de tamaño cuántico, efecto de túnel cuántico macroscópico, lo que los hace presentan características que los materiales convencionales no tienen en electricidad, magnetismo, luz y otros aspectos. Los científicos e ingenieros han resuelto muchos problemas técnicos utilizando las propiedades especiales de los nanomateriales. Leer Más »

Sobre la base de los dispositivos de silicona en el diseño y el desarrollo se han sometido a muchas generaciones de la estructura y la optimización y renovación del proceso, está cerca del límite del material de silicio, en función del potencial para mejorar el rendimiento de los dispositivos de silicona se vuelven más y más pequeños para El nitruro de galio, el carburo de silicio, ya que un representante de la tercera generación de semiconductores tiene excelentes propiedades físicas de los materiales para mejorar aún más el rendimiento del dispositivo de electrónica de potencia proporciona un espacio más grande. Leer Más »

La investigación y la aplicación de la Tierra rara en materiales funcionales incluyen principalmente los nanomateriales de la Tierra rara, los nanomateriales ultrafinos de la Tierra rara, la aplicación de la Tierra rara en polímeros funcionales, el estudio del estabilizador térmico de PVC basado en la tierra raro y su rendimiento de supresión de smog, y la preparación. y el rendimiento del catalizador de nanoalloy de tierras raras, que se utilizan principalmente en materiales de almacenamiento de hidrógeno y industria de aplicaciones de energía de hidrógeno. Leer Más »

El recubrimiento de pulverización de magnetrón es un nuevo método de recubrimiento de fase gaseosa física, que es usar el sistema de pistola de electrones para emitir electrones y enfocar el material recubierto, de modo que los átomos de pulverización sigan el principio de conversión de impulso para volar lejos del material con una alta cinética. Energía a la película de deposición de sustrato. Este material chapado se llama el objetivo de pulverización. Leer Más »

El boruro de zirconio es un material común en Boruros, y hay tres tipos de boruro de circonio en el sistema de boro-circonio, respectivamente, el monoboruro de circonio (ZRB), el diboruro de circonio (ZRB2) y el circonio doce Boruro (ZRB12). Sin embargo, debido a la buena estabilidad del diboruro de circonio en un amplio rango de temperatura, por lo que la producción industrial de boruro de circonio es en su mayoría diboruro de circonio como el componente principal. Leer Más »

El carburo de boro, también conocido como diamante negro, es una forma orgánica. La forma molecular es B₄C. Por lo general, es un polvo fino negro grisáceo. Es uno de los tres materiales más duros conocidos (los otros son nitruro de boro cúbico y diamante) y se usa en muchas aplicaciones industriales. Tiene una dureza de MoHS de 9.3. Entonces, ¿cuáles son las propiedades y las propiedades químicas del carburo de boro? Leer Más »

¿Qué condiciones deben reunirse los polvos de metal para cumplir con los requisitos de los materiales de impresión 3D? Las inclusiones cerámicas reducirán significativamente el rendimiento del producto final, y estas inclusiones generalmente tienen un alto punto de fusión y son difíciles de sinterizar, por lo que no deben estar las inclusiones cerámicas en el polvo. Leer Más »