¿Cuáles son los requisitos materiales para la fuente de evaporación en el recubrimiento al vacío?

En general, debe considerarse el material y la forma de la fuente de evaporación. Los requisitos generales de laMaterial de la fuente de evaporaciónestán:

El alto punto de fusión

Debido a que la temperatura de evaporación del material de evaporación (la temperatura de la presión de vapor de equilibrio de 1.3PA) se encuentra principalmente entre 1000 ~ 2000, por lo tanto, el punto de fusión del material de la fuente de evaporación debe ser mayor que esta temperatura.

Presión de vapor de equilibrio

El propósito principal es prevenir o reducir el material de la fuente de evaporación en materiales de evaporación de alta temperatura y convertirse en impurezas, en la capa de revestimiento de evaporación. Solo en materiales de origen de evaporación cuando el equilibrio de la presión del aire es lo suficientemente bajo como para asegurarse de que tenga la autocontrol más pequeña durante la evaporación, no afecta a la capa de vacío y membrana de contaminación del sistema, para que la cantidad de materiales de origen de evaporación sea muy poco, evaporación Temperatura, material de la fuente de evaporación La elección, debe hacer que el material de la temperatura de evaporación sea menor que los materiales de la fuente de evaporación, la presión de la balanza de 1,3 x 10-6 PA, la temperatura correspondiente a 1.3 × 10-3PA se puede usar para preparar la alta calidad Película (s.

Propiedades químicas estables

La reacción química con material de evaporación no debe ocurrir a alta temperatura. A una temperatura alta, algunos materiales de origen de evaporación reaccionan y difunden con materiales que evaporan para formar compuestos y aleaciones. Especialmente la fuente de evaporación de baja aleación eutéctica es fácil de quemar. Por ejemplo, Tantalum y Gold formarán aleaciones a alta temperatura, y aluminio, hierro, níquel, cobalto también formarán aleaciones con tungsteno, molibdeno, tantalio y otros materiales evaporativos. Tungsteno también puede reaccionar con agua u oxígeno para formar óxidos volátiles como WO, WO2 o WO3. El molibdeno también puede reaccionar con agua u oxígeno para formar MOO3 volátiles, etc. Por lo tanto, debe elegir el material que no reaccionará con el material de recubrimiento o formar la aleación para realizar el material de origen de evaporación del material.

Los materiales utilizados como fuentes de evaporación deben tener un alto punto de fusión, baja volatilización y baja britidez después del enfriamiento de alta temperatura. La fuente de evaporación lineal comúnmente utilizada debe ser capaz de humedecerse con la fase de metal de evaporación, el punto de fusión es mucho mayor que la temperatura de evaporación de los chapados en oro, y no reacciona con la aleación chapada en oro.