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Óxido de hafnio (HfO2) -Pellets

  • 12055-23-1

  • HfO2

  • 720800PL

  • 99,95% -99,995%

  • 18 mm de diámetro X 12 mm de espesor, etc.

  • 235-013-2

Estado de Disponibilidad:

Característica

El óxido de hafnio (IV) es el compuesto inorgánico de fórmula HfO2.También conocido como hafnia, este sólido incoloro es uno de los compuestos más comunes y estables del hafnio.Es un aislante eléctrico con una banda prohibida de 5.3 ~ 5.7 eV.El dióxido de hafnio es un intermediario en algunos procesos que dan hafnio metálico.


Fórmula química: HfO2

Masa molar: 210,49 g / mol

Apariencia: polvo blanquecino

Densidad: 9,68 g / cm3, sólido

Punto de fusión: 2.758 ° C (4.996 ° F; 3.031 K)

Punto de ebullición: 5,400 ° C (9,750 ° F; 5,670 K)

Solubilidad en agua: insoluble

Susceptibilidad magnética (Ï ‡) :âˆ'23.0 · 10âˆ'6cm3/ mol


Solicitud

Hafnia se utiliza en recubrimientos ópticos y como dieléctrico de alto κ en condensadores DRAM y en dispositivos semiconductores de óxido metálico avanzados.


En los últimos años, el óxido de hafnio (así como el óxido de hafnio dopado y deficiente en oxígeno) atrae un interés adicional como posible candidato para memorias de conmutación resistiva y transistores de efecto de campo ferroeléctrico compatibles con CMOS (memoria FeFET) y chips de memoria.


Debido a su alto punto de fusión, la hafnia también se utiliza como material refractario en el aislamiento de dispositivos como termopares, donde puede operar a temperaturas de hasta 2500 ° C.


Se han desarrollado películas multicapa de dióxido de hafnio, sílice y otros materiales para su uso en la refrigeración pasiva de edificios.Las películas reflejan la luz solar e irradian calor en longitudes de onda que atraviesan la atmósfera de la Tierra y pueden tener temperaturas varios grados más frías que los materiales circundantes en las mismas condiciones.



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