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Aleación de gadolinio de cerio (CEGD) - Targeta de la computadora

  • Cegd

  • 586400st

  • 99.95%

  • 2 pulgadas DIA X 0.25 pulgadas TH.TC

Estado de Disponibilidad:

Funcmaterse especializa en productosObjetivo de alta calidad de chapeteo, objetivo cerámica, objetivo de metal. Los productos se aplican a varios campos de recubrimiento al vacío por varios métodos (pulverización magnetrona, chapado al vacío, etc.): investigación científica, aeroespacial, automotriz, microelectrónica, industria de circuitos integrados, fuente de luz, óptica, decoración, industria de paneles planos, información Industria de almacenamiento, almacenamiento de datos y así sucesivamente.


1. objetivo de metal

Objetivo de níquel, objetivo de titanio, objetivo de zinc, objetivo de cromo, objetivo de magnesio, objetivo de niobio, objetivo de estaño, objetivo de aluminio, objetivo de indio, objetivo de hierro, objetivo de circonio, objetivo de silicio, objetivo de cobre, objetivo de tantalio, objetivo de germanio, objetivo de plata, objetivo de oro , Objetivo de gadolinio, objetivo de lantano, objetivo yttrium, objetivo de cerio, objetivo de Hafnio, objetivo de molibdeno, objetivo de tungsteno, objetivo de acero inoxidable, objetivo de aluminio de circonio, objetivo de hierro de níquel, objetivo de aluminio de titanio, objetivo de cromo de níquel, alguacil de algenio de galio de índice, silicio de aluminio objetivo, zinc aliminum blanco, etc.


2. Material de cerámica objetivo.

Objetivo ITO, Target Azo, Target Igzo, Objetivo de óxido de magnesio, Objetivo de óxido de Yttrium, Objetivo de óxido de hierro, objetivo de óxido de níquel, objetivo de óxido de cromo, objetivo de óxido de zinc, objetivo de sulfuro de zinc, objetivo de sulfuro de cadmio, objetivo de sulfuro de molibdeno, silicio de dióxido de silicona Objetivo de monóxido, objetivo de óxido de cerio, diana de dióxido de circonio, diana de pentóxido de niobio, diana de dióxido de titanio, objetivo de disulfuro de molibdeno, objetivo de dióxido de hafnio, diana de diboruro de titanio, diana de diboruro de titanio, diana de diboruro de zirconio, diana de trióxido de tungsteno, objetivo de trióxido de aluminio, objetivo de trióxido de aluminio, objetivo de fluoruro de magnesio , Diana de fluoruro de yttrium, diana de selenide de zinc, diana de nitruro de aluminio, diana de nitruro de silicio, objetivo de nitruro de boro, objetivo de nitruro de titanio, objetivo de carburo de silicio, objetivo de litio niobato, objetivo de titanato de praseodimio, objetivo de titanato de bario, objetivo de titanato de lantáneo, etc.


3. Material de aleación objetivo.

Titanio aluminio ti-al, silicato de aluminio al-si, aluminio titanio al-ti, cobre plateado AG-CU, aluminio magnesio al-mg, cobalto de hierro boro co-fe-b, cobre indio galium cu-in-ga, ferrimanganic fe -Mn, Indium Tin IN-SN, cobalto hierro co-fe, níquel cobalto ni-co, níquel hierro ni-fe, níquel cromo ni-cr, níquel circonio ni-zr, níquel aluminio ni-al, níquel cobre NI-CU , Nickel Vanadium ni-V, titanio tungsteno TI-W, Zinc Aluminio Zn-al, Aluminio Titanium Boron Al-Ti-B, Vanadio Al-Ti-B, Aluminio Vanadio al-V, Aluminio Escandium Al-SC, CO-SC-SC-SC, Zirconium Aluminio Zr- Al, Boron Hierro, etc.


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