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Objetivo de pulverización rotatoria de metal indio (In)

  • 7440-74-6

  • In

  • 4900rt

  • 99.9% -99.995%

  • Personalizado

  • 231-180-0

Estado de Disponibilidad:
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Característica


El material de destino de pulverización es la materia prima de la película delgada depositada por el método de pulverización, que se utiliza principalmente en el campo de la pantalla del panel, semiconductor y la grabación magnética de la energía solar de la película delgada.

La pureza de nuestro objetivo giratorio de indio puede ser 4N5.


Solicitud


Es un tipo de material de película delgada de magnetoresistencia gigante utilizada en campo microelectrónico, pantalla plana y almacenamiento.


Indium_msds.pdf



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