Siliciuro de tungsteno (WSi2) -Sputtering Target

Característica

Siliciuro de tungsteno (WSi₂) es un compuesto inorgánico, un siliciuro de tungsteno.Es un material cerámico conductor de electricidad.

Fórmula química: WSi₂

Masa molar: 240.011 g / mol

Aspecto: cristales tetragonales de color gris azulado

Densidad: 9,3 g / cm³

Punto de fusión: 2160 ° C (3.920 ° F; 2.430 K)

Solubilidad en agua: insoluble

Solicitud

Se utiliza en microelectrónica como material de contacto, con resistividad de 60 a 80 μΩ cm;se forma a 1000 ° C.A menudo se usa como derivación sobre líneas de polisilicio para aumentar su conductividad y aumentar la velocidad de la señal.Las capas de siliciuro de tungsteno se pueden preparar mediante deposición química de vapor, por ejemplo, usando monosilano o diclorosilano con hexafluoruro de tungsteno como gases fuente.La película depositada no es estequiométrica y requiere recocido para convertirse a una forma estequiométrica más conductora.El siliciuro de tungsteno reemplaza las películas de tungsteno anteriores.El siliciuro de tungsteno también se usa como capa de barrera entre el silicio y otros metales, por ejemplo, tungsteno.

El siliciuro de tungsteno también es valioso para su uso en sistemas microelectromecánicos, donde se aplica principalmente como películas delgadas para la fabricación de circuitos a microescala.Para tales fines, las películas de siliciuro de tungsteno se pueden grabar con plasma usando, por ejemplo, gas trifluoruro de nitrógeno.

WSi₂se desempeña bien en aplicaciones como recubrimientos resistentes a la oxidación.En particular, en similitud con el disilicida de molibdeno, MoSi₂, la alta emisividad del disilicida de tungsteno hace que este material sea atractivo para el enfriamiento radiativo de alta temperatura, con implicaciones en los escudos térmicos.