Aleación de titanio y cromo (TiCr)-objetivo de pulverización catódica

Funcmater se especializa en productos Objetivo de pulverización de alta calidad, objetivo de cerámica, objetivo de metal. Los productos se aplican a varios campos de recubrimiento al vacío mediante diversos métodos (pulverización magnetrona, estampado de vacío, etc.): Investigación científica, aeroespacial, automotriz, microelectrónica, industria de circuitos integrados, fuente de luz, óptica, decoración, industria de visualización de paneles planos, industria de almacenamiento de información, almacenamiento de datos, etc.

1. objetivo de metal

Objetivo de níquel, objetivo de titanio, objetivo de zinc, objetivo de cromo, Objetivo de magnesio, objetivo de niobio, objetivo de estaño, objetivo de aluminio, objetivo de indio, Objetivo de hierro, objetivo de circonio, objetivo de silicona, objetivo de cobre, objetivo de tantalio, objetivo de germanio, objetivo de plata, objetivo de oro, objetivo de gadolinio, objetivo de lantano, objetivo yttrium, objetivo de cerio, objetivo de Hafnio, objetivo de molibdeno, Objetivo de tungsteno, objetivo de acero inoxidable, objetivo de aluminio de circonio, objetivo de hierro de níquel, objetivo de aluminio de titanio, objetivo de cromo de níquel, objetivo de selenio de galio de indio de cobre, objetivo de silicio de aluminio, objetivo de aliminum de zinc, etc.

2. Material de cerámica objetivo.

Objetivo ITO, Target Azo, Target Igzo, Objetivo de óxido de magnesio, objetivo de óxido de yttrium, objetivo de óxido de hierro, diana de óxido de níquel, objetivo de óxido de cromo, objetivo de óxido de zinc, objetivo de sulfuro de zinc, objetivo de sulfuro de cadmio, objetivo de sulfuro de molibdeno, objetivo de dióxido de silicio, diácono de óxido de cerio, dióxido de circonio objetivo, Objetivo de pentóxido de niobio, Objetivo de dióxido de titanio, objetivo de disulfuro de molibdeno, objetivo de dióxido de Hafnio, objetivo de diboruro de titanio, diana de diboruro de circonio, Objetivo de trióxido de tungsteno, objetivo de trióxido de aluminio, Objetivo del pentóxido tantalum, Objetivo de fluoruro de magnesio, objetivo de fluoruro de yttrium, diana de selenide de zinc, diana de nitruro de aluminio, diana de nitruro de silicio, objetivo de nitruro de boro, objetivo de nitruro de titanio, objetivo de carburo de silicio, objetivo de litio niobato, objetivo de titanato de praseodimio, objetivo de titanato de bario, diana de titanato de lantáneo, etc.

3. Material de aleación. Objetivo

Aluminio de titanio Ti-al, Silicato de aluminio al-si, aluminio titanio al-ti, plata cobre AG-CU, aluminio Magnesio al-Mg, Boro de hierro cobalto Co-fe-b, cobre indium galium cu-in-ga, FerriManganic Fe-Mn, Indium Tin In-SN, Cobalt Iron Co-Fe, Nickel Cobalt Ni-Co, Nickel Iron Ni-Fe, Níquel Chromium ni-cr, níquel Zirconio Ni-Zr, níquel aluminio ni-al, níquel cobre NI-CU, Níquel Vanadio NI-V, Titanio Tungsteno Ti-W, Zinc Aluminio Zn-al, Aluminio Titanium Boron al-Ti-B, Vanadio Al-V, Aluminio Scandium al-SC, cobre Tin CU-SN, zirconio aluminio zr-al, hierro de boro, etc.