7440-21-3
Si
1400SRT
≥99,9%
Personalizado
231-130-8
Estado de Disponibilidad: | |
---|---|
Característica
El silicio es un tipo importante de materiales objetivo de pulverización catódica, que se utiliza principalmente en el sistema de reacción de la capa dieléctrica de SiO2 y SiN de pulverización catódica con magnetrón, como importantes materiales funcionales de película delgada, tienen buena dureza, propiedades ópticas y dieléctricas y resistencia al desgaste, resistencia a la corrosión y otras características, en óptica, microelectrónica y otros campos tiene una amplia perspectiva de aplicación y los materiales funcionales son una amplia atención internacional.
Generalmente, las dianas de silicio se pueden dividir en tipos monocristalinos y policristalinos.
Solicitud
Se utiliza para hacer películas de SiO2 / Si3N4, principalmente para vidrio óptico, sistema de película AR de pantalla táctil, vidrio recubierto de baja emisividad, electrónica semiconductora, pantalla plana, pantalla táctil.
Característica
El silicio es un tipo importante de materiales objetivo de pulverización catódica, que se utiliza principalmente en el sistema de reacción de la capa dieléctrica de SiO2 y SiN de pulverización catódica con magnetrón, como importantes materiales funcionales de película delgada, tienen buena dureza, propiedades ópticas y dieléctricas y resistencia al desgaste, resistencia a la corrosión y otras características, en óptica, microelectrónica y otros campos tiene una amplia perspectiva de aplicación y los materiales funcionales son una amplia atención internacional.
Generalmente, las dianas de silicio se pueden dividir en tipos monocristalinos y policristalinos.
Solicitud
Se utiliza para hacer películas de SiO2 / Si3N4, principalmente para vidrio óptico, sistema de película AR de pantalla táctil, vidrio recubierto de baja emisividad, electrónica semiconductora, pantalla plana, pantalla táctil.