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Objetivo de pulverización catódica de cromo metálico (Cr)

  • 7440-47-3

  • Cr

  • 2400

  • 99.5%, 99.9%, 99.95%, 99.99%

  • Discos, placas, objetivos de Roatry, hecho a medida.

  • 231-157-5

Estado de Disponibilidad:


El objetivo de chromium sputtering tiene las mismas propiedades que el cromo metálico (CR). El cromo es un metal de transición tan gris, lustroso, duro y quebradizo. Es capaz de ser altamente pulido mientras se resisten a la tarta. El cromo pulido refleja casi el 70% del espectro visible, con casi el 90% de la luz infrarroja que se refleja. El metal de cromo es de alto valor por su alta resistencia a la corrosión y dureza.


FUNCMATER Ofrecimiento de objetivos de pulverización, fuentes de evaporación y otros materiales de deposición. Más DetAI, por favor revise el sitio web. Para hablar con alguien directamente sobre los precios actuales o para una cotización en objetivos de pulverización y otros productos de deposición no enumerados, por favorhaga clic aquí.


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El objetivo de Chromium Sputter se usa en muchas aplicaciones de vacío, como recubrimientos de vidrio automotriz, fabricación de células fotovoltaicas, fabricación de baterías, celdas de combustible y recubrimientos decorativos y resistentes a la corrosión. El objetivo de cromo pulverización se utiliza para CD-ROM, decoración de deposición de película delgada, pantallas de panel plano, recubrimiento funcional tan bien como otra industria del espacio de almacenamiento de información óptica, etc.



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