Objetivos de cerámica pulverización
- Óxido de manganeso y hierro (ferrita de espinela) (MnFe2O4)-objetivo de pulverización catódica
- Titanato de magnesio (óxido de titanio y magnesio) (MgTiO3): objetivo de pulverización catódica
- Ortosilicato de magnesio (Mg2SiO4)-objetivo de pulverización catódica
- Fluoruro de zinc (ZnF2): objetivo de dispersión
- Dióxido de silicio (SiO2): objetivo de dispersión
- Óxido de indio (In2O3): objetivo de dispersión
- Óxido de estaño (SnO2): objetivo de dispersión
- Vanadato de bismuto (óxido de bismuto y vanadio) (BiVO4): objetivo de dispersión
- Cobre (II) Telururo (Cu2Te) - Objetivo de dispersión
- Selenuro de cobre y galio (CuGaSe2) - Objetivo de dispersión