Objetivos de cerámica pulverización
- Sulfuro de cobre (I) (CuS) - Objetivo de dispersión
- Sulfuro de cobre (II) (Cu2S) - Objetivo de dispersión
- Antimonuro de bismuto (BiSb): objetivo de dispersión
- Antimonuro de plomo (PbSb) -Sputtering Target
- Antimonuro de germanio (GeSb): objetivo de dispersión
- Antimonuro de galio (GaSb): objetivo de dispersión
- Arseniuro de galio (GaAs): objetivo de dispersión
- Fosfuro de galio (GaP): objetivo de dispersión
- Siliciuro de vanadio (VSi2): objetivo de dispersión
- Siliciuro de titanio (TiSi2) -Sputtering Target