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Objetivo de pulverización de óxido de sodio y oxinitruro de aluminio

Una lista de estos artículos de Objetivo de pulverización de óxido de sodio y oxinitruro de aluminio facilita el acceso rápido a la información relevante. Hemos preparado el siguiente Objetivo de pulverización de óxido de sodio y oxinitruro de aluminio profesional, con la esperanza de ayudarlo a resolver sus preguntas y comprender mejor la información del producto que le interesa.
  • 03-07
    2022
    [Noticias] Objetivo pulverización por qué vincular el objetivo
    Los objetivos de pulverización se utilizan principalmente en la industria de la información electrónica, como circuitos integrados, almacenamiento de información, pantalla de cristal líquido, memoria láser, dispositivos de control electrónico, etc. También se puede usar en recubrimiento de vidrio, materiales resistentes al desgaste, resistencia a la corrosión de alta temperatura, Productos decorativos de alta calidad y otras industrias. La unión se refiere a la unión de un objetivo a un objetivo posterior con soldadura. Leer Más »
  • 03-04
    2022
    [Noticias] Objetivos de cerámica: tres factores principales que afectan las propiedades de la misma.
    La pureza del objetivo cerámico tiene una gran influencia en el desempeño de la película de pulverización. Cuanto más alta sea la pureza, mejor será la uniformidad de la película pulverización y la calidad de los productos por lotes. Además, para preparar un objetivo cerámico de alto rendimiento, debemos controlar estos factores, incluido principalmente el método de moldeo, el tamaño de la materia prima, el efecto de sinterización, hoy para analizar los principales factores que afectan al rendimiento del objetivo cerámico son aquellos. Leer Más »
  • 02-18
    2022
    [Noticias] Objetivos de alta pureza pulverización para chips de semiconductores
    El objetivo de pulverización es el factor más importante para determinar el rendimiento del semiconductor. Así aplicado al semiconductor y el grado de precisión requerido, es la pureza más alta, el grado de pureza de los materiales objetivo de pulverización y la precisión afectarán directamente el rendimiento del semiconductor, la diferencia de los materiales objetivo de pulverización es la mayor cantidad de consecuencias directas causadas por el cortocircuito semiconductor Leer Más »
  • 02-03
    2022
    [Noticias] ¿Qué es el objetivo de Sputtering?
    El recubrimiento de pulverización de magnetrón es un nuevo método de recubrimiento de fase gaseosa física, que es usar el sistema de pistola de electrones para emitir electrones y enfocar el material recubierto, de modo que los átomos de pulverización sigan el principio de conversión de impulso para volar lejos del material con una alta cinética. Energía a la película de deposición de sustrato. Este material chapado se llama el objetivo de pulverización. Leer Más »
  • 09-09
    2020
    [Noticias] Se ha desarrollado con éxito un instrumento portátil de medición de sobrecalentamiento instantáneo para aluminio electrolítico.
    Recientemente, se ha desarrollado con éxito una especie de artefacto de ahorro de energía de aluminio electrolítico llamado instrumento de medición portátil en tiempo real de sobrecalentamiento de pre-tanque.El instrumento de medición es desarrollado por Beijing Core Power Technology Co., Ltd. sobre la base de la medición de temperatura del cristal original. Leer Más »
  • 07-30
    2020
    [Noticias] Hay disponibles baterías de sodio eficientes y económicas
    Según un informe de THE WEBSITE of Russia Today del 15 de julio, científicos de Rusia y Alemania han desarrollado un nuevo proceso para fabricar baterías de sodio. La batería de sodio puede reemplazar el uso actual de baterías de litio, tiene muchas ventajas: una reducción significativa en el costo de fabricación, lith Leer Más »