Los objetivos de pulverización se utilizan principalmente en la industria de la información electrónica, como circuitos integrados, almacenamiento de información, pantalla de cristal líquido, memoria láser, dispositivos de control electrónico, etc. También se puede usar en recubrimiento de vidrio, materiales resistentes al desgaste, resistencia a la corrosión de alta temperatura, Productos decorativos de alta calidad y otras industrias. La unión se refiere a la unión de un objetivo a un objetivo posterior con soldadura. Leer Más »

La pureza del objetivo cerámico tiene una gran influencia en el desempeño de la película de pulverización. Cuanto más alta sea la pureza, mejor será la uniformidad de la película pulverización y la calidad de los productos por lotes. Además, para preparar un objetivo cerámico de alto rendimiento, debemos controlar estos factores, incluido principalmente el método de moldeo, el tamaño de la materia prima, el efecto de sinterización, hoy para analizar los principales factores que afectan al rendimiento del objetivo cerámico son aquellos. Leer Más »

El material objetivo es el material de hacer una película delgada, utilizando el material objetivo bombardeado por partículas cargadas de alta velocidad, a través de diferentes láser (haz de iones) y una interacción de material objetivo diferente para obtener diferentes sistemas de membrana, para lograr la función de conducción y bloqueo. . Por lo tanto, el objetivo también se llama \"Sputtering Target \". Su principio de funcionamiento es utilizar los iones generados por la fuente de iones para reunirse y acelerar al vacío. Leer Más »

El objetivo de pulverización es el factor más importante para determinar el rendimiento del semiconductor. Así aplicado al semiconductor y el grado de precisión requerido, es la pureza más alta, el grado de pureza de los materiales objetivo de pulverización y la precisión afectarán directamente el rendimiento del semiconductor, la diferencia de los materiales objetivo de pulverización es la mayor cantidad de consecuencias directas causadas por el cortocircuito semiconductor Leer Más »

El recubrimiento de pulverización de magnetrón es un nuevo método de recubrimiento de fase gaseosa física, que es usar el sistema de pistola de electrones para emitir electrones y enfocar el material recubierto, de modo que los átomos de pulverización sigan el principio de conversión de impulso para volar lejos del material con una alta cinética. Energía a la película de deposición de sustrato. Este material chapado se llama el objetivo de pulverización. Leer Más »

Metal objetivo níquel, ni, titanio, ti, zinc, zn, cromo, cr, magnesio, mg, niobio, nb, estaño, sn, aluminio, al, indio, en, hierro, fe, circonio, zral, titanio-aluminio, Tial, circonio, zr, aluminio-silicona, alsi, silicio, si, cobre, cu, tantalum, t, a, ge, objetivo de plata, objetivo de AG, objetivo de cobalto, objetivo de cobalaje, objetivo de oro, objetivo de AU, objetivo de gadolinio Leer Más »

El 27 de septiembre, el Ministerio de Ecología y Medio Ambiente realizó una sesión informativa sobre políticas de cambio climático. Introdujo las políticas relacionadas con el cambio climático en China y la posición básica, el medio ambiente ecológico, director general del departamento de cambio climático li, durante el período de \"diferentes Leer Más »

Recientemente, se ha desarrollado con éxito una especie de artefacto de ahorro de energía de aluminio electrolítico llamado instrumento de medición portátil en tiempo real de sobrecalentamiento de pre-tanque.El instrumento de medición es desarrollado por Beijing Core Power Technology Co., Ltd. sobre la base de la medición de temperatura del cristal original. Leer Más »

Recientemente, el cobre serbio zijin celebró la ceremonia \"KuangGongJie \", el ministro de minería y energía de Serbia antic asistió a la ceremonia y entregó a cuatro empleados el premio \"Š ingeniero isteck \". El ministro Antic señaló que en el primer semestre de 2020, en la situación de prevención de epidemias y co Leer Más »

Un mes después del exitoso lanzamiento de un cohete portador Long March 3B que transportaba el Beidou-3, un cohete Long March 5 despegó a las 12:41 am del 23 de julio, levantando la sonda Mars Tianwen-1 de China desarrollada en el país. preludio de la sinfonía del poder espacial de China en el espacio y Leer Más »