La pulverización es una de las principales tecnologías de preparación de materiales de película delgada, lo que hace uso de la fuente de iones, la fuente de iones a través de la aceleración recolectada en un vacío, y la formación de un haz de iones de alta velocidad, el bombardeo de superficie sólida, iones y sólidos. Intercambio de impulso atómico de superficie, a partir de superficie sólida sólida y deposición atómica en la superficie basal, a medida que los materiales de destino de chisporroteo bombardeados sólidos.
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